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島津熒光光譜儀具有廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域
更新時(shí)間:2015-12-05   點(diǎn)擊次數(shù):1829次
     zui近十幾年在上一種新的多元素分析儀器迅速發(fā)展起來(lái)。已經(jīng)成為一種成熟的,應(yīng)用廣泛的分析儀器。他就是X-射線熒光能譜儀,全稱(chēng)為:能量色散X-射線熒光光譜儀。
    深圳市華得隆科技有限公司供應(yīng)的島津熒光光譜儀又稱(chēng)熒光分光光度計(jì),是一種定性、定量分析的儀器。通過(guò)熒光光譜儀的檢測(cè),可以獲得物質(zhì)的激發(fā)光譜、發(fā)射光譜、量子產(chǎn)率、熒光強(qiáng)度、熒光壽命、斯托克斯位移、熒光偏振與去偏振特性,以及熒光的淬滅方面的信息。島津熒光光譜儀是較新型X射線熒光光譜儀,具有重現(xiàn)性好,測(cè)量速度快,靈敏度高的特點(diǎn)。能分析F(9)~U(92)之間所有元素。樣品可以是固體、粉末、熔融片,液體等,分析對(duì)象適用于煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業(yè)樣品。無(wú)標(biāo)半定量方法可以對(duì)各種形狀樣品定性分析,并能給出半定量結(jié)果,結(jié)果準(zhǔn)確度對(duì)某些樣品可以接近定量水平,分析時(shí)間短。薄膜分析軟件FP-MULT1能作鍍層分析,薄膜分析。測(cè)量樣品的zui大尺寸要求為直徑51mm,高40mm.
    島津熒光光譜儀操作簡(jiǎn)便,工作效率高,一般多元素樣品分析時(shí)間為2-3分鐘,儀器維護(hù)費(fèi)用低,且儀器壽命長(zhǎng),比其他于元素分析儀器購(gòu)置費(fèi)用低等突出的特點(diǎn)。故目前的在各個(gè)行業(yè)的化學(xué)分析專(zhuān)業(yè)均有應(yīng)用。近幾年特別是在冶金行業(yè)尤為突出。如黑色,有色金屬中的各種合金材料,貴金屬,冶金的各種原料,礦石,鐵合金類(lèi),爐渣,保護(hù)渣,耐火材料等均有良好的應(yīng)用實(shí)踐。 熒光能譜儀具有廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域,在不同的領(lǐng)域應(yīng)用顯示出不同的鮮明特點(diǎn)。在國(guó)外化學(xué)分析領(lǐng)域已經(jīng)得到廣泛的應(yīng)用。由于這是一種新的分析手段。進(jìn)入中國(guó)分析儀器市場(chǎng)時(shí)間不長(zhǎng)(1992年以后),許多化學(xué)分析,材料分析領(lǐng)域的科研人員尚不熟悉。希望通過(guò)本文的介紹,可以引起科研,檢驗(yàn),化學(xué)分析人員的關(guān)注。 一般說(shuō)來(lái),現(xiàn)在的XRF能夠滿(mǎn)足一般分析測(cè)試的需求,對(duì)于RoHS指令,其誤差主要來(lái)自于樣品以及標(biāo)準(zhǔn)。因此需要對(duì)樣品的制備和處理相當(dāng)重視。同時(shí)XRF作為一種比較分析技術(shù),要求所有進(jìn)入儀器測(cè)試的標(biāo)準(zhǔn)樣品和未知樣品具有相同的形貌和重現(xiàn)性。任何樣品制備方法,都必須保證樣品制備的重復(fù)性,并在一定的濃度范圍內(nèi)使樣品具有相似的物理性質(zhì)。
    熒光光譜分析定性篩查采用定性分析方法來(lái)辨認(rèn)管制物的存在與否。和其他分析程序相比,此測(cè)試方法具有快速、很少或者不需要制備樣品,以及寬的動(dòng)力學(xué)范圍。所用的設(shè)備很多比其他方法用到的成本更低。取決于控制物質(zhì)的可接受的標(biāo)準(zhǔn),以及分析儀器的性能,本測(cè)試不能作為裁決性的結(jié)果。如果是碰到后者的情況,本測(cè)試執(zhí)行完畢后必須繼續(xù)執(zhí)行定量篩查分析或者其他驗(yàn)證測(cè)試程序來(lái)決定樣品中管控物質(zhì)的存在與否以及濃度。
    熒光光譜儀必須注意的是X射線熒光光譜分析只提供管制物質(zhì)以元素形式存在與否的信息。特別注意的地方例如對(duì)于Cr和Br,其結(jié)果只反映總Cr和總Br的存在,而不是管制的Cr(Vi)和PBB,PBDE。因此Cr(VI),PBB,PBDE的存在必須使用驗(yàn)證測(cè)試程序來(lái)確認(rèn),如果檢測(cè)的到Cr或者Br存在。相反必須注意的是如果本方法沒(méi)有檢測(cè)到Cr和Br的元素形式存在,那么也肯定沒(méi)有Cr(VI)和PBB,PBDE。由于XRF光譜法是一種比較的技術(shù),其性能取決于校正的品質(zhì),也就是取決于用來(lái)建立儀器校正的標(biāo)準(zhǔn)的度。XRF分析對(duì)于基體是非常敏感的。這意味著光譜以及基體干擾(例如吸收和增強(qiáng)現(xiàn)象)必須在分析的時(shí)候加以考慮,特別是復(fù)雜多變的樣品例如聚合物和電子元件。

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